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稀土类钡铜氧多层厚膜的制备与研究

时间:2024-09-06 16:11:33

稀土类钡铜氧多层厚膜的制备与研究

稀土类钡铜氧多层厚膜是一种高温铜氧化合物超导体,属于铜氧基超导体的一种。铜氧基超导体包括四大类,分别是超导临界转变温度为90 K的稀土系、110 K的铋系、125 K的铊系和135 K的汞系。稀土类钡铜氧多层厚膜具有类似的层状晶体结构,可以制成单畴块状材料、涂层导体(第2代高温超导带材)或薄膜材料,广泛应用于超导磁悬浮装置和永磁体、强电电力机械或弱电电子器件等领域。

相关内容总结:

1. 稀土系铜氧化合物超导体的合成方法:一种钴掺杂钆钡铜氧超导薄膜的制备方法,通过无氟前驱溶液制备,具体作法是将乙酸钆、乙酸钡、乙酸铜和乙酸钴按化学计量比溶解,并控制钴的掺杂量。

2. 高温铜氧化合物超导体的生长方法:GaN衬底上复合缓冲层诱导BST类钙钛矿结构氧化物薄膜外延生长。通过脉冲激光沉积方法,可以实现GaN薄膜的研究。

3. 稀土类钡铜氧化物超导材料的制备及应用:稀土超导材料可以制成单畴块状材料、涂层导体(第2代高温超导带材)或薄膜材料。通过这些材料可以应用于超导磁悬浮装置和永磁体、强电电力机械或弱电电子器件等方面。

1. 钴掺杂钆钡铜氧超导薄膜的制备

钆钡铜氧化物是稀土系铜氧化合物超导体的一种,添加钴元素可以调节其超导性能。制备方法是将乙酸钆、乙酸钡、乙酸铜和乙酸钴按一定比例化学计量溶解,得到无氟前驱溶液。通过控制钴元素的掺杂量,可以调节钆钡铜氧超导薄膜的性质和超导临界温度。

2. 高温铜氧化合物超导体的生长方法

在GaN衬底上进行复合缓冲层,可以诱导BST类钙钛矿结构氧化物薄膜的外延生长。其中,脉冲激光沉积是一种常用的方法。通过这种方法,可以实现GaN薄膜的研究。外延生长的钡铜氧化物薄膜具有良好的晶体质量和均匀的成分分布,适用于稀土类钡铜氧多层厚膜的制备。

3. 稀土类钡铜氧化物超导材料的制备及应用

稀土钡铜氧化物超导材料可以制成单畴块状材料、涂层导体(第2代高温超导带材)或薄膜材料。单畴块状材料适用于超导磁悬浮装置和永磁体,可以实现超导磁悬浮和永磁悬浮的应用;涂层导体适用于强电电力机械,可以提高电力机械的效率和输出功率;薄膜材料适用于弱电电子器件,可以提高器件的性能和稳定性。

稀土类钡铜氧多层厚膜是一种高温铜氧化合物超导体,属于铜氧基超导体的一种。通过钴掺杂钆钡铜氧超导薄膜的制备方法和GaN衬底上复合缓冲层诱导BST类钙钛矿结构氧化物薄膜的外延生长方法,可以制备稀土类钡铜氧多层厚膜。这些材料适用于超导磁悬浮装置、永磁体、强电电力机械和弱电电子器件等领域。稀土类钡铜氧多层厚膜的制备与研究为高温超导材料的发展和应用提供了新的可能性。